Questão de Conhecimentos Específicos

Circuitos integrados modernos, tanto analógicos quanto digitais,

utilizam transistores de efeito de campo do tipo metal-óxidosemicondutor,

denominados MOSFETs. A tecnologia CMOS

explora o emprego simultâneo de MOSFETs de canal n (NMOS)

e de MOSFETs de canal p (PMOS), tornando possível o uso de

técnicas de projeto extremamente poderosas. Com respeito às

etapas de fabricação de estruturas CMOS em circuitos integrados,

julgue os seguintes itens.

Na síntese de MOSFETs, normalmente são utilizadas

lâminas de silício de alta pureza. Para a deposição do óxido

sobre o substrato semicondutor, o único processo eficiente

disponível atualmente é a oxidação em fornos

especiais ultra-limpos e de alta temperatura

(entre 1.000° C e 1.200°C).