QuestãoCentro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC - Analista Administrativo Área Engenharia Física (ETEA - PESDES)

Enunciado

A crescente integração de componentes nos circuitos integrados exige que as estruturas sejam cada vez mais reduzidas. A respeito da tecnologia para litografia usando fótons de 13,5 nm pode-se afirmar que

as máscaras fotolitográficas para essa tecnologia tem de ser necessariamente de quartzo.

o processo tem de ocorrer em atmosfera inerte.

a óptica de projeção usada nesse processo é baseada em materiais de gap largo, como o fluoreto de lítio.

a fonte de luz adequada é lâmpada de Xe de alta pressão.

a resolução é limitada mais pela geração de fotoelétrons e elétrons secundários no resiste, que pelo limite de difração.

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