Questão de FísicaCentro de Tecnologia da Informação Renato Archer (CTI) - Tecnologista Área Energia Solar com Foco em Energia Fotovoltaica (Pleno - Prova 2
Enunciado
O processo de dopagem é um dos passos mais importantes na fabricação de muitos dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos. As três técnicas mais comuns para dopagem em semicondutores são: crescimento epitaxial, difusão, implantação de íons. Julgue os itens subseqüentes, relativos a essas três técnicas de dopagem.
O processo de difusão envolve a substituição de um átomo da rede pelo átomo dopante. Esse processo é geralmente muito rápido e pode ser feito à temperatura ambiente.
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