Questão de FísicaCentro de Tecnologia da Informação Renato Archer (CTI) - Tecnologista Área Energia Solar com Foco em Energia Fotovoltaica (Pleno - Prova 2
Enunciado
O processo de dopagem é um dos passos mais importantes na fabricação de muitos dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos. As três técnicas mais comuns para dopagem em semicondutores são: crescimento epitaxial, difusão, implantação de íons. Julgue os itens subseqüentes, relativos a essas três técnicas de dopagem.
Para que possa ser evaporado pela técnica de epitaxia por feixe molecular, o dopante deve possuir uma pressão de vapor muito baixa, uma vez que a dopagem é feita em condições de ultra-alto vácuo.
Relatar um erro nesta questão
Continue estudando Física
Mais questões da mesma disciplina para manter o ritmo.
- IBFC2017Celulares colocados dentro de um aparelho de microondas desligado e aterrado perdem a capacidade de fazer e receber ligações. Assinale a alternativa que indica o fenômeno físico responsável por esse efeito:Resolver
- CESPE2017Julgue os próximos itens, relativos às máquinas síncronas. Quando em velocidade síncrona, os enrolamentos amortecedores não têm efeito sobre a máquina, a não ser que haja alteração na velocidade de rotação.Resolver
- CESPE2017Julgue os próximos itens, relativos às máquinas síncronas. Máquinas síncronas com rotor de polos salientes são indicadas para uso em aplicações que necessitam de acionamentos em alta velocidade.Resolver
- CESPE2017Julgue os próximos itens, relativos às máquinas síncronas. As máquinas síncronas não são indicadas para utilização como geradores, devido às suas características construtivas e de operação.Resolver