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Questão de FísicaCentro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC - Analista Administrativo Área Engenharia Elétrica (ETEA - FILFIN)

Enunciado

Uma vantagem do reator para deposição química a partir de vapor melhorada por plasma é

Alternativas
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C

Gabarito oficial: alternativa C

a alta taxa de deposição.

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