QuestãoCentro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC - Analista Administrativo Área Engenharia Física (ETEA - PESDES)

Do ponto de vista do wafer, a sequência de passos no processo de fotolitografia é: aplicação do filme fotossensível, alinhamento da máscara com o wafer, exposição do fotoresiste, revelação do padrão.

O efeito da difração da luz usada para exposição com o padrão da máscara limita a resolução das estruturas.

No resiste positivo as partes não expostas são dissolvidas na revelação.

O ambiente da sala de fotolitografia é iluminado em um comprimento de onda que não interfere com o material fotossensível.

O fotoresiste é exposto a luz ultravioleta para ser sensibilizado (usualmente as linhas g, h ou i de lâmpadas de mercúrio).